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안양대형로펌 3차례나 반복된 폭발사고···중처법 적용으로 ‘솜방망이 처벌’ 달라질까

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작성자 행복한 댓글 0건 조회 0회 작성일 26-06-04 21:50

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안양대형로펌 7명 사상자를 낸 폭발사고를 계기로 한화에어로스페이스 대전사업장 안전관리 체계 전반에 대한 검증이 불가피할 것으로 보인다. 같은 사업장에서 세번째 반복된 폭발사고라는 점에서 구조적인 안전관리 여부가 핵심 쟁점으로 떠오르고 있다. 노동당국은 산업안전보건법상 안전조치 의무 이행 여부와 중대재해처벌법상 안전보건 확보 의무 이행 여부를 집중적으로 살펴보고 있다.
한화에어로스페이스 대전사업장에서는 2018년과 2019년 폭발사고로 각각 5명, 3명이 목숨을 잃었다. 당시 책임자들은 관리감독 소홀과 안전조치 미흡 등으로 유죄 판결을 받았으나 모두 징역·금고형의 집행유예를 받았다. 한화법인에는 각각 3000만원, 5000만원 벌금이 부과됐다.
이번 사고는 향후 형사처벌 수위가 과거보다 무거워질 수 있다는 전망이 나온다. 이용석 노무사는 2일 “과거 사고들은 중처법 시행 이전에 발생한 데다 방산업계 특성상 정보 공개가 제한적이었고 유족과의 합의 등이 양형에 반영되면서 비교적 낮은 수준의 형이 선고됐다”고 말했다. 반면 이번 사고는 중처법 시행 이후 발생했고 사업장에서 이미 두 차례의 폭발·화재 사고가 있었던 만큼 재발 방지 의무 이행 여부와 반복된 사고 이력이 가중 요소로 고려될 가능성이 있다는 것이다.
중처법은 사업장에서 중대산업재해로 1명 이상 사망자가 발생했을 때 안전보건 확보 의무를 다하지 않은 사업주나 경영책임자 등을 처벌하도록 정하고 있다. 1년 이상 징역 또는 10억원 이하 벌금에 처하는데, 회사 법인에는 50억원 이하 벌금을 부과할 수 있다. 2022년부터 시행 중이다.
이 노무사는 “이번 사고와 관련해서는 위험물질 취급 과정에서 폭발 위험성이 존재했는지, 사소한 화재로 끝날 수 있었던 상황이 안전조치 미준수로 인해 대형 폭발과 중대재해로 이어진 것은 아닌지가 핵심 쟁점이 될 것”이라고 말했다.
중처법 적용 여부 역시 단순히 안전 매뉴얼 존재 여부가 아닌, 현장에서 실제로 작동했는지가 중요한 판단 기준이 될 것으로 보인다. 이 노무사는 “과거 유사 사고 이력이 있는 데다 한화는 국내 대표 방산기업인 만큼 안전 매뉴얼 자체가 없었을 가능성은 낮다”며 “결국 매뉴얼이 현장에서 실질적으로 이행됐는지가 중처법 위반 여부를 가르는 핵심 요소가 될 것”이라고 했다.
한화는 과거 사고 이후 안전사고 제로화를 목표로 대규모 안전투자 계획을 발표하고 위험 공정 개선, 자동화 확대, 작업환경 개선 등을 추진해 왔다. 그러나 유사 사고가 반복되면서 기존 개선 대책의 실효성을 다시 검증해야 한다는 지적도 나온다. 한화에어로스페이스는 지난해 1월 대전 유성소방서로부터 위험물예방규정에 따른 재해예방교육을 실시하지 않은 이유로 과태료 200만원 처분을 받았다.
이재명 대통령에 대한 허위사실을 유포했다는 혐의로 고발돼 경찰의 수사선상에 오른 모스 탄(한국명 단현명·사진) 미국 리버티대 교수가 출국정지됐다. 탄 교수는 이 조치를 취소해달라며 소송을 냈다.
2일 경향신문 취재 결과 경찰은 전날 도주 우려가 있다며 탄 교수에 대한 출국정지를 법무부에 요청했고, 법무부는 이를 승인했다. 출국정지는 내국인을 상대로 한 출국금지와 같은 조치다. 탄 교수는 즉각 출입국 금지 처분 취소 소송을 냈다. 본안소송의 결과가 나올 때까지 출국정지의 집행을 정지해달라는 신청도 했다.
서울행정법원 행정1단독 위지현 부장판사는 이날 출국정지 집행 정지 신청 사건의 심문기일을 열었다. 탄 교수 측은 경찰과 최근 수사받을 장소를 협의 중이었고 도주 우려가 없다며 “법무부의 출국정지 처분에는 절차적·실체적 하자가 있고, 탄 교수에게 회복하기 어려운 손해를 입혔다”고 주장했다. 탄 교수의 대리인으로는 이하상·고영일·김지미 변호사가 출석했다. 이들은 김용현 전 국방부 장관의 내란 혐의 사건 등을 맡고 있다.
법무부 측 대리인은 “탄 교수는 법적 근거가 없는 요구를 하면서 사실상 정당한 사유 없이 출석을 거부하고 있다”며 “탄 교수가 미국 강의 등을 이유로 출국이 필요하다고 주장하지만, 구체적으로 출국 목적에 대한 객관적 입증을 전혀 하지 못하고 있다”고 주장했다.
한국계 미국인인 탄 교수는 지난해 6월 미국 워싱턴에서 열린 기자회견에 참석해 이 대통령이 청소년 시절 강력범죄에 연루돼 소년원에 수감됐다는 취지의 허위사실을 유포해 명예를 훼손한 혐의로 한국 경찰의 수사를 받고 있다.
경찰은 지난달 28일 탄 교수가 국내 입국할 때 공항에 나가 출석을 요구했지만, 탄 교수는 응하지 않았다. 미국 도널드 트럼프 1기 행정부에서 국무부 국제형사사법대사를 지낸 탄 교수는 ‘중국이 한국의 부정선거에 개입했다’는 등 음모론을 퍼뜨려 논란을 빚어왔다.
삼성전자가 현재 양산·공급하는 고대역폭메모리(HBM)보다 성능을 고도화한 신제품 모형을 처음으로 공개하며 인공지능(AI) 메모리 시장에서 기술 ‘초격차’를 추구하겠다는 의지를 드러냈다.
삼성전자는 2일 대만 타이베이에서 열린 아시아 최대 IT 박람회 ‘컴퓨텍스 2026’ 전시장에서 8세대 HBM(HBM5) 실물모형(mock-up)을 공개했다. 목업 공개는 HBM5 제품 개발이 거의 완성 단계에 접어들었다는 의미로 풀이된다.
삼성전자 송재혁 DS부문 최고기술책임자(CTO) 사장은 “급변하는 AI 산업에 대응하기 위해서는 메모리, 파운드리, 로직, 패키징까지 아우르는 토탈 솔루션 경쟁력이 더욱 중요해지고 있다”면서 “특히 AI 시스템이 초고성능·초고집적 구조로 진화하면서 단순 메모리 성능뿐 아니라 데이터 처리 효율과 열관리 기술까지 핵심 경쟁 요소로 부상하고 있다”고 말했다.
특히 HBM5 등 차세대 HBM에서 핵심 기술로 꼽히는 열 관리 기술 HPB(Heat Path Block)에 대해서도 설명했다. HPB는 AI 메모리 성능 고도화 과정에서 증가하는 발열 문제를 해결하기 위한 기술로, 열을 보다 효율적으로 분산·방출하게끔 한다.
송 사장은 HBM4E(7세대) 제품에서 이 같은 열관리 기술 검증을 마쳤고, HBM5에선 열 전달 경로를 추가해 열 저항을 낮추고 동작 안정성을 높였다고 설명했다. HBM5에는 2나노 베이스 다이 공정도 선제적으로 적용된다. 송 사장은 “엔비디아를 포함한 글로벌 기업들과의 협력을 기반으로 차세대 메모리 기술 경쟁력을 지속 강화해 나갈 계획”이라고 말했다.
SK하이닉스도 컴퓨텍스 2026 행사장에 마련한 전시 부스에서 차세대 AI 메모리 설루션을 소개했다. 엔비디아와의 파트너십을 보여주기 위해 엔비디아의 슈퍼컴퓨터 DGX 스파크(DGX Spark)에 탑재되는 LPDDR5X를 전시하며 초고속 연산이 요구되는 AI 환경에서의 적합성을 강조했다. 또한 6세대·7세대 HBM(HBM4·HBM4E)을 비롯해 세계 최초로 10나노급 6세대(1c) 공정 기술을 적용한 RDIMM 등 서버용 D램, 낸드를 수직 적층하는 차세대 메모리 고대역폭플래시(HBF) 등도 전시했다.
SK하이닉스는 “주요 파트너들과 함께 AI 기술의 미래를 그려가는 SK하이닉스의 기술 리더십을 선보였고, 주요 AI 메모리 제품과 차세대 기술 비전을 폭넓게 알렸다”면서 “앞으로도 변화하는 AI 트렌드에 민감하게 대응해 나가면서 글로벌 메모리 시장을 선도해 나가겠다”고 밝혔다.

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